联系人及邮箱：谭付瑞 frtan@henu.edu.cn

放置地点：物理楼B座214室

设备简介：

仪器型号：JZDZS&ZF-500B

生产厂家：中国/沈阳聚智真空设备有限公司

仪器主要用途：

该镀膜系统可为基片表面生长金属薄膜、无机非金属薄膜、有机小分子薄膜提供电子枪蒸发与电阻热蒸发两种生长模式。可用于制备光电器件的功能薄膜层，如电板、光电器件的窗口层、缓冲层、光敏层等。

主要规格及技术指标：

1.极限真空5*10-5 Pa；

2.抽速，从大气抽至7*10-4 Pa，用时小于40 min；

3.真空保持，系统停泵关机12小时后，真空度≤5 Pa；

4.基片加热，温度可达600 ℃，升温速率5-20 ℃/min。